반도체 공정장비에 대해서 간단히 설명해 보세요.
① 전공정 장비
CMP 장비 | 웨이퍼를 연마할 때 사용하는 장비 |
Coater | 감광액을 고르게 도포해주는 설비 |
Aligner | 정렬기, 웨이퍼상의 위치와 마스크를 정확히 일치하도록 정렬시켜 주는 장비 |
Stepper | 노광장비(마스크 상의 회로패턴을 감광액이 도포된 웨이퍼 표면에 전사해주는 설비) |
Develop | 현상기(빛에 노출되어 성질이 변한 감광액을 현상액으로 제거해주는 설비) |
Etcher | 에처, 웨이퍼 위에 형성된 패턴대로 필요한 부분을 선택적으로 깎아내는 설비 |
Chiller | 식각공정에서 procee chamber 내의 온도조건을 안정적으로 제어하는 온도조절 장비 |
Stripper | 식각 공정이 끝난 후 남아있는 감광액을 제거해 주는 장비 |
asher | 건식식각이나 이온주입 등에 의해 굳어진 감광액을 건식 제거하는 장비 |
Station | 세척설비, 매 공정 후에 항상 웨이퍼를 세척해 주는 설비 |
Implanter | 이온주입장치, 불순물 주입공정에 사용되는 장비 |
Sputter | 금속 박막 증착장치, 웨이퍼 표면에 부착시켜 소자간 연결배선을 만들어주는 설비 |
Scrubber | 가스 배출 시 환경 친화적으로 정화시켜 주는 장비 |
furnance | 확산할 수 있게 고온의 환경을 만들어 주는 설비 |
② 후공정 장비
Burn-in | 높은 온도로 열적 stress를 가하는 장비 |
Bonding | 반도체 제품 조립 시 칩을 외부단자의 도선과 연결하는 작업 |
Packaging | 공정 완료 후 웨이퍼를 각각의 소자(die)로 절단한 후 금형이나 케이스에 넣어 밀봉하는 작업 |
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