성균관대학교 / 화학과 / 학점 4.29/4.5 / 오픽: IH / 사회생활 경험: 우수학부연구생 1회, ibs 양자헤테로 연구단 학부인턴 2개월, 삼성전자 장기현장실습(4개월) / 24BK 학부연구 포스터발표 최우수상, 24 e-포트폴리오 공모전 최우수상, 글로벌•융합교육 우수사례 공모전 최우수상, Multiple prize on campus 2nd prize / 기타: Adsp
[소재-공정 최적화를 통한 경쟁력 강화]
삼성전자는 GAA 트랜지스터와 High-K/Metal Gate 등 차세대 반도체 기술을 선도하며, 새로운 소재 적용을 주도하고 있습니다.
[입사 후 목표: 반도체 소재 전문가]
입사 후에는 Low-k 절연막, 고유전 게이트 절연막 등 반도체 핵심 소재의 박막 증착 및 특성 평가 역량을 심화하고, 데이터 분석을 활용한 공정 최적화 기술을 발전시키겠습니다.
[반도체 소재 및 공정 연구 경험]
저는 성균관대학교 에너지과학과 양자헤테로 연구단에서 Low-K 절연막 소재 및 QLED 소자 연구를 수행하며 반도체 소재 합성과 공정 최적화 경험을 쌓았습니다.