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D+40

[SK머티리얼즈퍼포먼스] [신입] Photo Resist 연구개발원 모집

상세내용

[SK머티리얼즈퍼포먼스] [신입] Photo Resist 연구개발원 모집



1. 주요 업무

 - 반도체용 Photo Resist 개발

 - 조성 설계 및 핵심 원재료(Resin/PAG 등) 구조 Design

 - Litho 평가 DOE 수립 / 평가 Data 해석 / Trouble-Shooting

 - 제품개발 관련 고객사 기술 지원(불량 원인 분석 등) 


2. 지원자격 (Qualification)

  - 학력 : 석사 이상 학위 보유자 또는 졸업 예정자

  - 전공 : 화학, 재료, 고분자 계열 전공자


 3. 필수역량 (Required Skill)

[유기화학에 대한 기본 이해]

 - 유기화합물 및 분자 간 상호작용을 이해하고, 구조–물성–성능 간 관계를 화학적으로 설명할 수 있는 학문적 지식

[핵심 원재료 구조 설계에 대한 이해]

 - 목표 물성 확보를 위해 핵심 원재료를 설계하고, 최적화된 구조 후보군을 도출하여 개발 방향성을 정의하는 기술

[소재 분석/검증에 대한 이해]

 - 원재료의 물성 및 구조 데이터를 해석하고, 신규 분석법을 개발·적용하여 양산 적합성을 검증 및 판정하는 기술

[AI 도구 활용에 대한 지식 및 수용도]

 - 생성형 AI 도구를 활용하여 정보를 탐색·정리·분석하고 연구개발 업무 효율을 높일 수 있는 역량 및 태도


4. 우대사항 (Preferred Qualification)

 - Photo Resist 또는 반도체 소재 개발 경험 보유자

 - Lithography 평가 또는 DOE 설계 경험 보유자

 - 데이터 분석을 통해 연구 개발 과제의 인사이트를 도출한 경험 보유자





[SK머티리얼즈퍼포먼스] [신입] Photo Resist 연구개발원 모집

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