금속-반도체 접합

학습 포인트

본 단원에서는 금속-반도체 접합의 필요성 및 금속과 반도체 간의 일 함수 차이에 의한 접합 특성의 변화에 대해 이해하고, 저항성 접합을 만들 수 있는 실제적인 방법에 대해 공부한다.

개념 맵

1 개요

반도체 소자는 외부와 연결되어 동작하는 원리이다. 외부와의 연결은 금속과 반도체 간의 접합에 의해 이루어지고, 이때 금속-반도체 접합은 두 가지 종류로 구분할 수 있다. 하나는 PN 접합 다이오드와 같이 정류 특성을 가지는 쇼트키 접합(Schottky junction)이고, 다른 하나는 저항 특성1을 보이는 옴 접합(Ohmic junction)이다. 이 중 옴 접합이 반도체 소자에 사용되고 있으며, 전류 전도가 양방향으로 원활하게 이루어진다는 특성이 있다. 옴 접합(저항성 접합)은 동작 속도 등과 같은 소자의 성능에 큰 영향을 미치므로, 반도체에서 중요한 부분 중 하나이다.

저항 특성1: 양전압, 음전압에 관계없이 전압에 따라 전류가 선형적으로 변하는 특성

본 단원에서는 쇼트키 접합과 옴 접합에 대해 알아보고, 그중 옴 접합을 일으키는 조건에 대해서도 논하고자 한다. 그 전에 먼저, 두 가지 새로운 개념을 도입해야 하는데, 일 함수(Work function, Φ)와 전자 친화도(Electron affinity, χ)가 바로 그것이다. 일 함수는 금속에서 전자를 떼어내는 데 드는 최소한의 에너지로서, 페르미 준위와 진공 준위(Vacuum level)2의 차이로 정의된다. 그리고 전자 친화도는 기체 상태의 원자가 전자 하나를 얻어 에너지 준위가 낮아지면서 방출하는 에너지로 정의되고, 전자 친화도가 클수록 그 입자는 전자를 얻기 더 쉽다는 의미가 된다. 에너지 밴드 측면에서 보면 반도체의 전도대역 최소 에너지(Ec)에 있는 전자를 진공 준위까지 끌어 올리는 데 필요한 에너지로 정의할 수 있다.

진공 준위2: 전자가 표면에서 충분히 멀리 떨어져 금속 표면의 영향을 받지 않을 때의 에너지 준위

쇼트키 접합과 옴 접합은 일 함수의 차이가 나는 금속과 반도체의 접합이며, 두 물질을 접합했을 때 캐리어가 이동하여 페르미 준위가 같아지면서 평형 상태에 이르게 된다. 일 함수의 차이에 따라 [표 3-1]과 같이 쇼트키 접합과 옴 접합으로 분류할 수 있다. 본 서에서는 n형 반도체에 대해서만 다룰 예정이고, p형 반도체는 n형 반도체의 경우와는 반대의 개념으로 이해하면 된다.

표 3-1 일 함수 차이에 의한 금속-반도체 접합 분류

구분

쇼트키 접합

옴 접합

n형 반도체

\quad \Phi_m > \Phi_s

\quad \Phi_m < \Phi_s

p형 반도체

\quad \Phi_m < \Phi_s

\quad \Phi_m > \Phi_s

\quad \Phi_m : 금속의 일 함수, \quad \Phi_s : 반도체의 일 함수

2 쇼트키 접합(Schottky junction)

(1) 열 평형 상태

[그림 3-1]은 평형 상태에서 \Phi_m > \Phi_s인 금속 -n형 반도체의 에너지 밴드 다이어그램을 나타낸 것이다. [그림 3-1(a)]는 금속과 반도체의 접합 전을, [그림 3-1(b)]는 접합 후 접합면의 전하 분포 및 에너지 밴드를 보여주고 있다.

금속과 반도체를 접합시키면, 순간적으로 전자는 페르미 준위가 높은 반도체에서 페르미 준위가 낮은 금속으로 이동하여 페르미 준위가 같아지는 평형 상태에 이르게 된다. 전자가 금속 쪽으로 이동했기 때문에 금속은 상대적으로 음의 전하를 갖게 되고 반도체는 금속 접합면 부근에서 도너 양이온에 의한 공핍 영역이 생성된다. 이로 인해 반도체 표면의 에너지 밴드가 위로 휘면서 내부 전위 장벽이 형성되므로, 더 이상의 전자 확산은 일어나지 않게 된다. 접합 후 금속 쪽 내부 전위 장벽의 높이(q\phi_B)는 q(\Phi_m - \chi)이 되고, 반도체 쪽(qV_0)은 q(\Phi_m - \Phi_s)이 되며, 이때의 금속 쪽 내부 전위 장벽 B를 쇼트키 장벽(Schottky barrier)이라 한다.

(2) 비평형 상태

그렇다면 평형 상태의 금속-반도체 접합 양단에 전압을 인가하여 비평형 상태를 만들면 어떤 변화가 생길까? [그림 3-2]에 순방향과 역방향 바이어스일 경우의 에너지 밴드 다이어그램을 나타내었다.

순방향 바이어스는 [그림 3-2(a)]에서 보여지듯이 금속 쪽에 양 전압을, 반도체 쪽에 음 전압을 가한 경우이다. 이렇게 되면 평형 상태에서 발생된 내부 전위(V0)와는 반대 방향의 전압(Vf)이 인가되어 내부 전위 장벽이 q(V0 - Vf)로 낮아지므로, 반도체 쪽에서 금속 쪽으로의 전자 확산이 잘 일어나 전류가 잘 흐르게 된다. 반면에 [그림 3-2(b)]와 같이 금속 쪽에 음 전압을, 반도체 쪽에 양 전압을 가한 역방향 바이어스의 경우에는, 평형 상태의 내부 전위(V0)와 같은 방향의 전압(Vr)이 추가로 인가되어 반도체 쪽의 에너지 밴드가 아래쪽으로 내려가게 된다. 이는 PN 접합에서 역방향 바이어스가 인가된 것과 동일한 원리이며, 내부 전위 장벽이 q(V0 + Vr)로 높아지는 결과를 가져오게 되므로 전류가 흐르지 못한다. 정리해보면, 순방향 바이어스와 역방향 바이어스 시에 [그림 3-2(c)]와 같은 전압-전류 특성 곡선으로 나타낼 수 있다. 이러한 비대칭적 접합을 쇼트키 접합(Shottky junction)이라 한다.

3 옴 접합(Ohmic junction)

(1) 열 평형 상태

이번에는 평형 상태에서 \Phi_m < \Phi_s 인 금속 -n형 반도체의 에너지 밴드 다이어그램을 [그림 3-3]에 나타내었다. [그림 3-3(a)]는 금속과 반도체의 접합 전을, [그림 3-3(b)]는 접합 후 접합면의 전하 분포 및 에너지 밴드를 보여주고 있다.

쇼트키 접합에서와 유사하게, 금속과 반도체를 접합시키면 순간적으로 전자는 페르미 준위가 높은 금속 쪽에서 페르미 준위가 낮은 반도체 쪽으로 이동하여 페르미 준위가 일치되는 평형 상태에 이르게 된다. 전자가 반도체 쪽으로 이동했기 때문에 금속은 상대적으로 양의 전하를 갖게 되고, 넘어온 전자는 반도체의 금속 접합면 부근에 축적(Accumulation)된다. 이로 인해 반도체 쪽의 에너지 밴드가 아래로 휘게 되고 내부 전위 장벽은 형성되지 않는다. 이렇게 반도체에 유기된 전자가 반도체의 다수 캐리어가 될 때 이상적인 옴 접합이 된다.

(2) 비평형 상태

[그림 3-4(a)]에서 보여지듯이, 순방향 바이어스 인가 시에는 반도체 쪽의 에너지 밴드가 평형 상태에서보다 더 올라가므로, 반도체 쪽에서 금속 쪽으로의 전자 이동이 쉬워진다. 그리고 역방향 바이어스 인가 시에는 [그림 3-4(b)]에서 보여지듯이 실리콘 쪽 내부 전위가 더 낮아져 금속 쪽에서 반도체 쪽으로 전자가 잘 이동할 수 있게 된다. 따라서 비평형 상태에서는 [그림 3-4(c)]와 같이 양방향으로 전류가 잘 흐를 수 있는 옴 접합을 만들 수 있다.

4 금속-반도체 접합의 실제 응용

그렇다면 실제 반도체 제조 시 사용되는 금속에는 어떤 것이 있으며, 이들의 일 함수와 그에 따른 금속-반도체 접합의 종류를 살펴볼 필요가 있다. [표 3-2]는 반도체와의 접합에 사용되는 금속을 나타낸 것이다. 이들의 일 함수(Φ m)는 4.3~4.5V로 실리콘과 유사하며, 실리콘의 전자 친화도(4.01V) 및 실리콘의 에너지 갭(1.12eV), 그리고 금속과 접합이 되는 부분의 도펀트 농도가 대부분 > 1018임을 고려하면, n, p형 모두 쇼트키 접합이 되어 정류 특성을 갖게 된다.

표 3-2 금속별 일 함수 및 반도체 전자 친화도

원소

일 함수, Φm

Al(Aluminum)

4.28

Ti(Titanium)

4.33

W(Tungsten)

4.35

원소

전자 친화도, χ

Ge(Germanium)

4.13

Si(Silicon)

4.01

GaAs(Gallium arsenide)

4.07

하지만 서두에 말했듯 소자의 성능에 효과적인 접합은 옴 접합이므로, 실제 옴 접합을 만들기 위한 노력이 필요하다. 이를 위해 실리콘 기판 위 산화막과 같은 절연막에 포토(Photo) 공정3 및 식각(Etch) 공정4을 이용하여 금속 접합이 이루어질 콘택 홀(Contact hole)5 패턴을 형성한 후, n, p영역에 각각의 도펀트로 고농도 도핑을 하는 방법을 사용한다. 고농도로 도핑하면 공핍 영역이 매우 얇아져 전자나 정공이 이 장벽을 뚫고 터널링할 수 있으므로, 양방향으로 전류 흐름이 원활한 옴 접합을 가능하게 한다([그림 3-5] 참조).

포토 공정3: 집적회로 제조 과정에서 감광성 고분자 물질(포토레지스트)을 이용해, 마스크(Mask) 상의 회로 패턴을 웨이퍼에 전사시키는 공정

식각 공정4: 반도체 공정 과정 중 하나로, 웨이퍼에서 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 과정

콘택 홀5: 기판의 채널과 상부 전극을 이어주는 구멍

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※ 기출문제를 읽고 스스로 답변해 본 후, 이와 관련된 ‘이론 페이지’의 내용을 확인하여 자신의 답안과 비교합니다.

이론 페이지

최신 기출 1 일 함수(Work function)에 대해 설명하시오.

p.109

최신 기출 2 금속과 n형 반도체를 접합시켰을 때, 열 평형 상태에서의 에너지 밴드 다이어그램을 그리고, 그 의미를 설명하시오.

p.110

최신 기출 3 쇼트키 장벽(Shottky barrier)에 대해 설명하시오

p.110

최신 기출 4 옴 접합(Ohmic junction)과 쇼트키 접합(Schottky junction)에 대해 설명하시오.

p.110, 112

최신 기출 5 쇼트키 접합(Schottky junction)에 의한 다이오드 특성을 해결하기 위한 방안에 대해 설명하시오.

p.113~114

반도체 소자

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